繁體中文 简体中文 English

鑽石系列
氧化鋁系列
碳化矽系列
二氧化矽系列
研磨液系列
其他應用系列
氧化鈰系列
光纖研磨拋光系列



美國奈洛普Nanolap長效型研磨拋光片56P

產品描述

本產品由美國奈洛普最新研發之氧化鈰拋光片, 0.5微米之顆粒
均勻塗佈於厚度為3mil精密級之聚酯薄膜的基材上,作為光纖研磨終端
拋光之用。
56P為Nanolap最新研發之產品, 除了提高良率之外,其使用壽命亦更符合亞洲市場之需求。
       
產品規格
圓盤型: 直徑127mm (5")
長方型: 113mm X  140mm
其他之規格尺寸歡迎洽詢  
                                                   
使用基材
厚度為3mil(75um)之聚酯薄膜
礦砂顆粒
0.5微米(um)之氧化鈰顆粒
 
研磨工藝建議
研磨前應先將拋光片保持充份濕潤, 並且保持研磨環境之潔淨
 
在每盤拋光完成後, 確實地清洗拋光片,可保持拋光片處於良好的拋光效能
使拋光片得延長其使用壽命。

先進奈米應用材料股份有限公司
Advanced Nanomaterials Co.,LTD.
版權所有 © 2010 先進奈米應用材料股份有限公司.  Designed by: 元伸網頁設計
電話:886-2-2936 7087 傳真:886-2-29367086