研磨前應先將拋光片保持充份濕潤, 並且保持研磨環境之潔淨在每盤拋光完成後, 確實地清洗拋光片,可保持拋光片處於良好的拋光效能使拋光片得延長其使用壽命。
本產品由美國奈洛普最新研發之二氧化硅拋光片, 將0.02微米之顆粒均勻塗佈於厚度為3mil精密級之聚酯薄膜的基材上,作為光纖研磨終端拋光之用。86PA為Nanolap最新研發之產品, 除了提高良率之外,其使用壽命亦更符合亞洲市場之需求