产品描述本产品由美国奈洛普最新研发之氧化铈抛光片, 将0.5微米之颗粒均匀涂布于厚度为3mil精密级之聚酯薄膜的基材上,作为光纤研磨终端抛光之用。56P为Nanolap最新研发之产品, 除了提高良率之外,其使用寿命亦更符合亚洲市场之需求。 产品规格圆盘型: 直径127mm (5")长方型: 113mm X 140mm其他之规格尺寸欢迎洽询
使用基材厚度为3mil(75um)之聚酯薄膜矿砂颗粒0.5微米(um)之氧化铈颗粒
研磨工艺建议研磨前应先将抛光片保持充份湿润, 并且保持研磨环境之洁净 在每盘抛光完成后, 确实地清洗抛光片,可保持抛光片处于良好的抛光效能使抛光片得延长其使用寿命。